"파운드리 기술 리더십과 시스템 반도체 사업 경쟁력 강화"
삼성전자가 EUV(극자외선) 기술을 토대로 '5나노 공정' 개발에 성공했다고 16일 밝혔다.
'5나노 공정'은 셀 설계 최적화를 통해 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄인다. 전력 효율과 성능은 각각 20%, 10% 향상시켰다. 특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP)을 활용할 수 있어 7나노 공정을 사용하는 기존 고객은 5나노 공정의 설계 비용을 줄일 수 있다.
삼성전자는 이달 내 7나노 제품을 출하한다. 6나노 제품은 연중 양산을 목표로 한다. 초미세 공정 포트폴리오 확대를 통해 파운드리 기술 리더십과 시스템 반도체 사업 경쟁력을 강화한다는 전략이다. 삼성전자 관계자는 "대형 고객과 6나노 제품 생산 협의를 진행하고 있다"면서 "제품 설계가 완료돼 올 하반기 양산할 예정"이라고 설명했다.
EUV 기술은 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장의 길이가 14분의 1 수준으로 짧은 EUV 광원을 사용해 더 세밀한 반도체 회로를 구현할 수 있는 것이 특징이다. 이를 통해 회로를 새기는 작업을 반복하는 멀티패터닝 공정을 줄여 성능과 수율을 높일 수 있다.
삼성전자가 첨단 초미세 공정 파운드리 생산의 핵심 기술을 확보함에 따라 국내 시스템 반도체 생태계가 강화되는 동시에 시스템 반도체 역량도 높아지는 효과가 있을 것으로 기대된다.
삼성전자는 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 'MPW 서비스'를 5나노 공정까지 확대 제공해 고객이 보다 편리하게 최첨단 반도체를 제작할 수 있도록 지원한다. 또 삼성전자 파운드리 지원 프로그램(SAFE TM)을 통해 설계 자산(IP) 외에도 공정 설계 키트(PDK), 설계 방법론(DM), 자동화 설계 툴(EDA) 등 5나노 공정 기반의 제품 설계를 돕는 인프라를 제공한다.
이를 통해 국내 팹리스(반도체 설계·기술 개발을 하고 생산은 위탁) 업체들이 글로벌 시장에서 경쟁할 수 있는 시스템 반도체를 내놓는 데 기여한다는 취지다.
배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 "삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G, 인공지능(AI), 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다"면서 "향후에도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 것"이라고 말했다.
삼성전자는 파운드리 생산시설인 화성캠퍼스 S3 라인에서 EUV 기반 최첨단 공정 제품을 생산하고 있다. 현재 건설 중인 화성캠퍼스 EUV 전용 라인을 2020년부터 본격 가동해 고객과 시장의 요구에 대응해 나갈 계획이다.
KPI뉴스 / 오다인 기자 odi@kpinews.kr
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