삼성전자는 20일 이 부회장이 회사의 첫 극자외선(EUV) 노광기술 전용 반도체 생산라인인 V1 라인을 방문했다고 밝혔다.
이 부회장은 이날 "지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다"며 "이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 말했다.
삼성전자는 지난해 4월 반도체 비전 2030을 발표하며 시스템반도체에 133조 원을 투자하고 전문인력 1만5000 명을 채용한다는 계획을 제시했다. 오는 2030년까지 최첨단 생산 인프라에 60조 원을 투자하고 연구개발(R&D) 분야에 73조 원을 투자할 예정이다.
삼성전자는 반도체 비전 2030 실행을 통해 연평균 11조 원 규모의 R&D 및 시설투자를 집행하고 생산량을 늘려 42만 명의 간접고용 유발 효과가 발생할 것이라고 전망했다. 또 비전 발표 당시 화성사업장의 신규 EUV 라인을 활용한 생산량을 늘리고 국내 신규 생산라인에 투자를 지속 추진하겠다고 예고했다.
EUV 노광기술은 파장이 짧은 EUV 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 불화아르곤(ArF)을 이용하는 기존 기술보다 세밀한 회로를 구현해 고성능·저전력 반도체를 만드는 데 쓰인다.
삼성전자는 V1 라인이 첫 EUV 전용 라인으로, 최근 7나노미터(㎚) 이하 반도체 생산에 돌입했으며 앞으로 차세대 파운드리 제품을 주력 생산할 계획이라고 강조했다.
KPI뉴스 / 임민철 기자 imc@kpinews.kr
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